High-NA EUV
Prochaine génération de lithographie EUV avec une ouverture numérique plus élevée (0,55 vs 0,33), permettant la gravure à 2 nm et en deçà.
Le High-NA (High Numerical Aperture) désigne la prochaine génération de lithographie EUV. L'ouverture numérique — qui détermine la finesse des motifs gravables — passe de 0,33 à 0,55, permettant de graver des structures encore plus petites.
Cette évolution est nécessaire pour atteindre les nœuds technologiques 2 nm et moins, indispensables aux générations futures de puces. Elle prolonge ainsi la trajectoire de miniaturisation décrite par la loi de Moore.
Les machines High-NA sont significativement plus complexes, plus coûteuses et plus longues à développer que leurs prédécesseurs. Leur déploiement conditionne la capacité des fabricants à rester à la frontière technologique dans la seconde moitié des années 2020.